深入了解邁克爾遜干涉儀在光纖端面測(cè)量中的應(yīng)用
在當(dāng)今的科技領(lǐng)域,光纖技術(shù)的發(fā)展日新月異,而在光纖端面的測(cè)量中,邁克爾遜干涉儀發(fā)揮著至關(guān)重要的作用。
市面上常見(jiàn)的光纖端面干涉儀多采用Michelson式或Mirau式,這一選擇實(shí)則是由光纖自身的參數(shù)所決定的。由于其他形式的干涉儀橫向分辨率過(guò)低,無(wú)法滿(mǎn)足測(cè)量需求,唯有這兩種能夠勝任。
邁克爾遜干涉儀的工作原理基于光的干涉現(xiàn)象。通過(guò)分束器將照明光分成兩束,當(dāng)這兩束光在重疊部分的傳播距離為光波長(zhǎng)的整數(shù)倍時(shí),就會(huì)發(fā)生相長(zhǎng)干涉;而當(dāng)傳播距離是光波長(zhǎng)一半的奇數(shù)倍時(shí),則會(huì)發(fā)生相消干涉,從而形成干涉條紋。

通過(guò)圖像我們可以清晰地看到,在平面參考鏡和球形連接器端面之間會(huì)出現(xiàn)條紋。其中,中心的黑色圓圈是直徑為125微米的光纖,因其反射率低于陶瓷,導(dǎo)致光亮度不足而呈現(xiàn)黑色。
值得注意的是,隨著待測(cè)產(chǎn)品的不斷發(fā)展,越來(lái)越多的是多芯產(chǎn)品。在這種情況下,Mirau式干涉儀已無(wú)法滿(mǎn)足測(cè)量需求,此時(shí)只能采用Michelson式干涉儀。這一選擇的背后,也參考了之前博文中關(guān)于芯片測(cè)量用的幾種干涉儀原理光路和特點(diǎn)的相關(guān)內(nèi)容。
總之,邁克爾遜干涉儀在光纖端面測(cè)量領(lǐng)域的應(yīng)用,為光纖技術(shù)的不斷進(jìn)步和發(fā)展提供了有力的支持和保障。
▍最新資訊
-
準(zhǔn)直儀與工業(yè)望遠(yuǎn)鏡在精密光學(xué)測(cè)量的應(yīng)用分析
精密制造、航空航天、光學(xué)工程等高端等領(lǐng)域,測(cè)量精度直接決定了產(chǎn)品性能與技術(shù)突破的邊界。光學(xué)測(cè)量技術(shù)憑借非接觸、高精準(zhǔn)、抗干擾性強(qiáng)的獨(dú)特優(yōu)勢(shì),成為現(xiàn)代工業(yè)與科研不可或缺的核心手段。其中,準(zhǔn)直儀與工業(yè)望遠(yuǎn)鏡作為兩類(lèi)關(guān)鍵的光學(xué)測(cè)量?jī)x器,分別承擔(dān)著光束準(zhǔn)直與遠(yuǎn)距離目標(biāo)檢測(cè)的核心任務(wù),其原理設(shè)計(jì)與應(yīng)用實(shí)踐共同構(gòu)筑了精密測(cè)量體系的重要基礎(chǔ)。本文將系統(tǒng)解析準(zhǔn)直儀與工業(yè)望遠(yuǎn)鏡的結(jié)構(gòu)組成、工作機(jī)制及應(yīng)用價(jià)值,探尋其在高端制造與科研領(lǐng)域占據(jù)核心地位的深層邏輯。
2026-01-09
-
電子自準(zhǔn)直儀光學(xué)如何讓角度測(cè)量達(dá)千分之一角秒精度?
在光學(xué)儀器的運(yùn)作體系中,光線(xiàn)的傳輸與偏轉(zhuǎn)控制是決定設(shè)備性能的核心要素。當(dāng)光線(xiàn)需穿過(guò)多個(gè)光學(xué)元件并完成特定偏轉(zhuǎn)時(shí),保持精準(zhǔn)的角度定位就成為技術(shù)實(shí)現(xiàn)的關(guān)鍵。傳統(tǒng)角度測(cè)量依賴(lài)操作員的目視檢查,受經(jīng)驗(yàn)、注意力等主觀(guān)因素影響較大,難以滿(mǎn)足高精度場(chǎng)景的需求。而電子自準(zhǔn)直儀的出現(xiàn),徹底改變了這一現(xiàn)狀,為光學(xué)角度測(cè)量帶來(lái)了兼具精準(zhǔn)性與可靠性的技術(shù)革新。
2026-01-09
-
飛秒激光直寫(xiě)技術(shù)的應(yīng)用——透明材料三維周期性光子結(jié)構(gòu)的創(chuàng)新
飛秒激光直寫(xiě)技術(shù)(FLDW)作為微納制造領(lǐng)域的革命性手段,憑借其高精度、高效率的三維加工能力,突破了傳統(tǒng)制造技術(shù)在透明材料光子結(jié)構(gòu)制備中的局限。本文系統(tǒng)闡述了FLDW的技術(shù)特性與核心優(yōu)勢(shì),深入解析了光學(xué)非線(xiàn)性調(diào)制和折射率調(diào)控的理論基礎(chǔ),詳細(xì)介紹了三維非線(xiàn)性光子晶體(3DNPCs)在非線(xiàn)性光學(xué)、量子光學(xué)、光束整形及全息成像等領(lǐng)域的應(yīng)用成果,最后分析了當(dāng)前技術(shù)面臨的挑戰(zhàn)并展望了未來(lái)發(fā)展方向,為該領(lǐng)域的進(jìn)一步研究與產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用提供參考
2026-01-09
-
干涉測(cè)量技術(shù)的原理、前沿突破與應(yīng)用賦能
干涉測(cè)量作為現(xiàn)代精密測(cè)量領(lǐng)域的核心技術(shù)之一,憑借其納米級(jí)測(cè)量精度和廣泛的適配性,在科研探索、工業(yè)生產(chǎn)、民生保障等多個(gè)領(lǐng)域發(fā)揮著不可替代的作用。近年來(lái),我國(guó)在該領(lǐng)域的科研創(chuàng)新與技術(shù)應(yīng)用持續(xù)取得突破,為相關(guān)行業(yè)發(fā)展注入強(qiáng)勁動(dòng)力。本文將系統(tǒng)闡述干涉測(cè)量技術(shù)的核心原理、前沿科研成果、光源選型要求及優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品支撐,展望其應(yīng)用前景。
2026-01-09
